|
|
| 您現(xiàn)在的位置： 青島晨立電子有限公司 > 供應信息> 高校、硅材料實驗室、微電子專業(yè)高溫氧化爐 |
|
|
|
| 發(fā)布時間： |
2025/1/6 9:08:00 |
|
|
|
高校、硅材料實驗室、微電子專業(yè)高溫氧化爐 詳細說明 |
|
| |
用途：
主要用于各大高校、硅材料實驗室、及微電子專業(yè)對半導體6寸及以下硅片的高溫擴散、氧化（濕氧）、退火、燒結合金工藝的教學和實驗工作。
1.1、工作溫度：400-1300℃
1.2、恒溫區(qū)長度及精度： 300mm /±0.5℃（可選）
1.3、爐管數(shù)：一、二、三、四管（可選）
1.4、適應硅片尺寸： 6寸及向下兼容
1.5、送取片方式：自動或手動（可選）
青島晨立電子有限公司成立于2009年，是半導體設備及零部件、電子設備及電子元器件生產、研發(fā)、銷售廠家。為客戶提供先進材料熱處理、高精度電加熱設備及系統(tǒng)集成等全套解決方案。
公司主要產品：高低溫擴散爐、實驗爐、共晶爐、燒結爐、加磁爐、高 精度智能溫度控制系統(tǒng)和替代進口的擴散爐爐體等，同時承接各種微電子生產線，進口半導體專 用設備的翻新升級改造及各大專院�？蒲性核姆菢搜邪l(fā)定制工作。
本產品網址：http://m.s3643.cn/sjshow_507808681/
手機版網址：http://m.vooec.com/trade_507808681.html
產品名稱：高校、硅材料實驗室、微電子專業(yè)高溫氧化爐 |
|
|
|
|
|
